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PRODUCTS CENTER當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心同位素分析實(shí)驗(yàn)耗材及設(shè)備酸純化器高純酸制備系統(tǒng)/酸提純器硝酸鹽酸等實(shí)驗(yàn)用
高純酸制備系統(tǒng)/酸提純器硝酸鹽酸等實(shí)驗(yàn)用,酸純化儀:又稱酸純化系統(tǒng),高純酸提純器,酸試劑提純器,高純酸蒸餾純化器等,實(shí)驗(yàn)室工作中常常由于酸的純度較差,造成分析結(jié)果的偏差與錯(cuò)誤。 因此,提純優(yōu)化酸的質(zhì)量,是為經(jīng)濟(jì)可行的途徑,我廠的酸純化器可用于實(shí)驗(yàn)室如HNO3、HCl、HF、堿溶液和有機(jī)溶劑的純化,純化后的酸和Merck的一樣好,實(shí)驗(yàn)后期可配套我單位Teflon特氟龍系列試劑瓶收取高純酸
產(chǎn)品分類
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一、 產(chǎn)品簡(jiǎn)介:
在傳統(tǒng)的無機(jī)分析實(shí)驗(yàn)中,都會(huì)用到用高純酸來清洗設(shè)備以達(dá)到去除雜質(zhì)的效果,且在實(shí)驗(yàn)中所用到的酸也是需要純凈度很高能達(dá)到實(shí)驗(yàn)級(jí)別的,然而市售的超純酸往往由于價(jià)格較貴,所以很難滿足日常分析中對(duì)實(shí)驗(yàn)級(jí)高純酸的大量需求。
高純酸制備系統(tǒng)/酸提純器硝酸鹽酸等實(shí)驗(yàn)用,酸純化儀:又稱酸純化系統(tǒng),高純酸提純器,酸試劑提純器,高純酸蒸餾純化器等,實(shí)驗(yàn)室工作中常常由于酸的純度較差,造成分析結(jié)果的偏差與錯(cuò)誤。
因此,提純優(yōu)化酸的質(zhì)量,是為經(jīng)濟(jì)可行的途徑,我廠的酸純化器可用于實(shí)驗(yàn)室如HNO3、HCl、HF、堿溶液和有機(jī)溶劑的純化,純化后的酸和Merck的一樣好,實(shí)驗(yàn)后期可配套我單位Teflon特氟龍系列試劑瓶收取高純酸。
二、工作原理:
酸純化儀是利用熱輻射原理,保持液體溫度低于沸點(diǎn)溫度蒸發(fā),再將其酸蒸氣冷凝從而制備高純水和高純?cè)噭瑥V泛應(yīng)用于樣品處理及分析實(shí)驗(yàn)中。
三、相關(guān)參數(shù):
型號(hào) | CH-I 500ml | CH-II 1000ml | CH-Ⅲ 2000ml |
名稱 | 酸純化器 | 酸純化器 | 酸純化器 |
產(chǎn)酸率 | 30ml/h | 50ml/h | 70ml/h |
溫控方式 | PID溫控?cái)?shù)顯 | PID溫控?cái)?shù)顯 | PID溫控?cái)?shù)顯 |
控溫精度 | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ |
材質(zhì) | FEP、PTFE、硅膠 | ||
電壓 | 220V/50Hz | ||
功率(W) | 350 | ||
優(yōu)勢(shì) | 1.密閉環(huán)境下提純酸,不受環(huán)境污染,確保酸純度 | ||
2.純FEP、PTFE材質(zhì)制造,空白值低無腐蝕 | |||
3.技術(shù)良好,結(jié)構(gòu)合理,操作簡(jiǎn)單,一鍵式操作,蒸干自我保護(hù) | |||
4.提純過程中,少量酸氣逸出 | |||
5.節(jié)約成本,方便實(shí)驗(yàn):較短時(shí)間內(nèi)純化低成本的酸試劑以達(dá)到痕量分析要求 |
使用注意事項(xiàng):
1、所有配件(控制器、電源線、加熱片等除外)放入按實(shí)驗(yàn)要求一定濃度的酸液中浸泡,去除雜質(zhì)。
2、加酸前須做好個(gè)人防護(hù)如:防濺眼鏡、防酸手套等(蒸水除外)。
四、 產(chǎn)品特點(diǎn):
1、可以滿足ICP、ICP-MS低的檢測(cè)限需要及苛刻的分析應(yīng)用中提供實(shí)驗(yàn)室級(jí)超純酸,所用容器均采用Teflon耐腐蝕無吸附塑料,保證了容器內(nèi)外的純凈度,全部采用高純凈的特氟龍材料可以避免其他金屬雜質(zhì)的介入,也可以使得在酸環(huán)境下的提取中更好的操作,控制盒分離保護(hù)了電子元器件被腐蝕,延長了使用壽命。可處理如HNO3、HCl、HF等實(shí)驗(yàn)室的常用酸。
2、實(shí)驗(yàn)證明將金屬雜質(zhì)含量約10ppb的酸經(jīng)過一次蒸餾后,金屬雜質(zhì)含量可以降低到0.01ppb左右。若對(duì)酸要求更高,可增加提純次數(shù),酸純化的則越純凈。
【電子級(jí)酸】:
適用于半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中所用產(chǎn)品的清洗和蝕刻以及痕量金屬元素殘留分析,根據(jù)質(zhì)控的金屬元素含量的數(shù)量和含量,劃分為4個(gè)級(jí)別:MOS級(jí),VLSI級(jí),ULSI級(jí),SLSI級(jí)
MOS級(jí)(EL級(jí)):控制十多個(gè)金屬元素,單項(xiàng)金屬元素雜質(zhì)控制在100PPb左右
VLSI級(jí):控制三十多個(gè)金屬元素,單項(xiàng)金屬元素雜質(zhì)控制在10~100PPb
ULSI級(jí):控制三十多個(gè)金屬元素,單項(xiàng)金屬元素雜質(zhì)控制在10PPb以下
SLSI級(jí):控制三十多個(gè)金屬元素,單項(xiàng)金屬元素雜質(zhì)控制在1PPB以下
所謂的電子級(jí)酸,其實(shí)就是ppb或者ppt級(jí)的高純酸。
實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)(僅供參考):儀器:CH-I 酸純化器;試劑:優(yōu)級(jí)純的HF
蒸餾后,經(jīng)中國地質(zhì)大學(xué)地質(zhì)過程與礦產(chǎn)資源國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室ICP-MS檢測(cè)出HF中雜質(zhì)的含量:
元素 | 測(cè)量濃度(ng/g=ppb) | 元素 | 測(cè)量濃度(ng/g=ppb) |
Be | <0.01 | Ba | <0.01 |
Mg | <0.02 | La | <0.01 |
Sc | <0.01 | Ce | <0.01 |
V | <0.01 | Pr | <0.01 |
Cr | <0.03 | Nd | <0.01 |
Mn | <0.01 | Eu | <0.01 |
Co | <0.01 | Gd | <0.01 |
Ni | <0.01 | Tb | <0.01 |
Zn | <0.02 | Er | <0.01 |
Ga | <0.01 | Tm | <0.01 |
Rb | <0.01 | Yb | <0.01 |
Sr | <0.02 | Lu | <0.01 |
Zr | <0.01 | Hf | <0.01 |
Cd | <0.01 | Pb | <0.01 |
Sn | <0.01 | Th | <0.01 |
Cs | <0.01 | U | <0.01 |
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